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脈沖工藝在薄膜制備中的應用

注意:本論文已在《真空科學與技術學報》,2004,24(增):33-37發表
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趙彥輝 林國強 董闖 聞立時
大連理工大學三束材料改性國家重點實驗室 遼寧 大連 116024

摘 要 本文綜述了國內外脈沖工藝在電弧離子鍍和磁控濺射中的應用。脈沖工藝為電弧離子鍍凈化大顆粒、增強膜基結合力、改善組織形貌、降低沉積溫度等起到了重要作用。電弧或濺射離子鍍高的離化率為脈沖工藝提供了最好的應用條件。最后,對脈沖工藝在薄膜制備中的應用前景進行了展望。
關鍵詞 電弧離子鍍 脈沖工藝 低溫沉積


ABSTRACT The application of pulse technique on arc ion plating and magnetron sputtering is summarized in the article. Pulse technique plays an important role in providing reduced marcroparticles pollution, enhancing adhesion between film and substrate, improving surface morphology and decreasing deposition temperature. Arc ion plating or magnetron sputtering provides the best application condition for pulse technique. Finally, prospect is given to the application foreground of pulse technique in film deposition.
KEY WORDS arc ion plating, pulse technique, low temperature deposition

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